問題來源：1、原水自帶的氧化性物質(zhì)，2、預(yù)處理殺菌投加的氧化劑或紫外燈運(yùn)行產(chǎn)生的氧化性物質(zhì)特征：氧化會導(dǎo)致樹脂破碎堵塞流道，使系統(tǒng)出力逐漸下降（壓差上升或流量下降），且化學(xué)清洗無效，可能會使產(chǎn)水水質(zhì)下降，過程時間較長。
措施：一級RO進(jìn)水處投加還原劑，控制進(jìn)水ORP≤200mv為宜。EDI進(jìn)水側(cè)不能安裝紫外線殺菌裝置。平時需做好數(shù)據(jù)記錄，如發(fā)現(xiàn)性能持續(xù)下降應(yīng)及時處理或反饋（因?yàn)閮x表有準(zhǔn)度問題，不能完全依賴ORP）。
以下參數(shù)應(yīng)每星期至少記錄一次
問題來源：EDI通過電來遷移離子，其過程會產(chǎn)生一定的熱量，如缺水通電會導(dǎo)致模塊局部過熱燒毀特征：EDI電流電壓明顯異?；驘o法上電，通常水質(zhì)會下降，過程時間很短。
措施：避免EDI在缺水情況下通電，淡水、濃水、極水都應(yīng)設(shè)置流量保護(hù)及報警，沒有設(shè)置自動保護(hù)的則需要人工做好閥門檢查及流量確認(rèn)。PS：不合格產(chǎn)排管道需與產(chǎn)水一樣受調(diào)節(jié)閥控制流量，否則產(chǎn)排時可能導(dǎo)致濃水與極水流量下降造成隱患。
問題來源：進(jìn)水水質(zhì)波動，RO膜脫鹽率下降或未采用二級RO工藝；長期停機(jī)細(xì)菌滋生特征：會逐漸使模塊出力降低，很可能使產(chǎn)水水質(zhì)下降，通?；瘜W(xué)清洗有效措施：及時進(jìn)行化學(xué)清洗，定期分析進(jìn)水水質(zhì)及RO膜是否需要更換；長期停機(jī)應(yīng)定期通新鮮水防止長菌。PS：判斷EDI系統(tǒng)是否污堵需從壓力及流量兩方面綜合考慮，例如產(chǎn)水恒流系統(tǒng)中流量雖無變化，壓差及進(jìn)水壓力明顯上升即提示污堵問題來源：新系統(tǒng)安裝前未對進(jìn)水管路沖洗特征：投運(yùn)后短時間內(nèi)EDI出力下降，產(chǎn)水水質(zhì)通常無明顯下降措施：對問題模塊進(jìn)行反沖洗，反沖洗壓力不宜高于0.2MPa，沖洗水水質(zhì)需滿足04 EDI進(jìn)水要求質(zhì)、系統(tǒng)出力、電流電壓正常，產(chǎn)水水質(zhì)不達(dá)標(biāo)特征：接反的模塊通電后產(chǎn)水電導(dǎo)比進(jìn)水電導(dǎo)高很多，不通電產(chǎn)水水質(zhì)反而更好，電流電壓顯示正常。措施：檢測電源正負(fù)極，調(diào)整接線
E-CELL模塊在調(diào)試時需要設(shè)置濃水進(jìn)比淡水出壓力低0.35-0.7bar，以實(shí)現(xiàn)全過程淡水壓力＞濃水壓力
無法設(shè)置的情況：濃水管徑太小或水泵揚(yáng)程太低，為保證濃水流量而無法降低濃水進(jìn)水壓力至合適值。措施：推薦EDI淡水進(jìn)水壓力要達(dá)到4bar，并選擇適宜的管徑EDI進(jìn)水PH需7-7.5，如偏酸可能會有少量二氧化碳?xì)怏w無法去除，經(jīng)過EDI后會生成碳酸氫根離子影響水質(zhì)。
措施：二級RO加堿將PH提升至8-9，二氧化碳反應(yīng)成為離子從而被RO膜及EDI去除PS：二氧化碳是相對易溶的氣體，雨水在下落過程中會吸收二氧化碳至PH≈5.6，因此在一級RO產(chǎn)水加裝除碳器可能效果并不理想。EDI經(jīng)過清洗、長期停機(jī)或者一段時間通水不通電運(yùn)行后都可能需要加強(qiáng)電流再生措施：保證好流量正常的情況下將電流提高至3-4A運(yùn)行，水質(zhì)恢復(fù)后再逐漸降低電流
